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Lead Designer, Layout
공고 요약
담당업무
아날로그 및 mixed-signal 블록의 full-custom IC 레이아웃 수행
Power stage FET metallization, LDO, reference, gate driver, charge pump, signal conditioning, data converter 레이아웃
블록 및 칩 수준 플로어플랜 개발, 면적·배선·전력 분배·신호 무결성 최적화
Common centroid, interdigitation, interleaving, merging, symmetry 기반 정밀 매칭
Guard ring, shielding, deep N-well 구조를 활용한 노이즈 격리
DRC, LVS, ERC 물리 검증 및 기생 성분 추출
회로 설계자와 post-layout 최적화 및 실리콘 상관관계 분석
SKILL 스크립팅과 AI/ML 기반 자동화를 통한 레이아웃 방법론 개선
주니어 디자이너 육성 및 지식 공유
Tapeout부터 양산 릴리스까지 레이아웃 산출물 제공
기술 범위
Power FET metal routing 및 균형 전류 분배·Rdson 최적화
기생 성분 추출, electromigration 분석, IR drop 평가
ESD 보호, latch-up 방지, DFM 검사, 밀도 균형 및 수율 기반 설계
아날로그 신호 경로와 전력 도메인의 layout-dependent effect 및 post-layout simulation correlation
회로 설계 및 제품 정의 팀과 성능 요구사항을 레이아웃 전략으로 전환
신규 공정 역량 평가 및 차세대 기술의 레이아웃 최적화 기회 발굴
자격요건
Custom analog/mixed-signal IC layout 경험
Cadence Virtuoso Layout Suite 및 Calibre 또는 Cadence PVS 물리 검증 도구 활용 능력
Tapeout 및 production release까지 레이아웃을 제공한 실적
CMOS 및 BCD 공정의 bipolar·MOS transistor·resistor·capacitor 정밀 매칭 레이아웃 경험
기생 성분 추출, layout-dependent effects 및 post-layout simulation correlation 역량
기술 프레젠테이션, 기술 문서 작성 및 커뮤니케이션 역량
우대사항
AI/ML을 활용한 레이아웃 자동화 경험 또는 관심
Generative layout, placement optimization, DRC-aware routing, predictive parasitic estimation 경험
SKILL scripting 또는 Python/TCL 자동화 역량
고전압 및 BCD 공정 레이아웃 경험
DMOS/LDMOS metallization, Rdson 최소화, gate metal strapping, ESD 구조, multi-voltage domain isolation 지식
근무환경
1st Shift/Days 근무
출장 필요, 근무시간의 10%
경쟁력 있는 보상과 복리후생
기술적 우수성, 지속적인 학습 및 협업 중심 환경
최신 설계 도구와 첨단 연구실 활용
기타사항
미국 상무부 또는 국무부의 기술통제 대상 기술에 접근할 수 있어 채용 전 적절한 승인이 필요할 수 있음
미국 시민권자, 미국 영주권자 및 법률상 보호대상자를 제외한 지원자는 수출 허가 심사 절차가 필요할 수 있음
동등한 고용 기회 제공
마감기한
상시채용
공고 원문
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