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Principal Process Engineer - DRAM and Memory Applications
공고 요약
담당업무
ALD, PEALD, Epitaxy, PECVD 기반 DRAM 및 차세대 메모리용 증착 공정 개발·최적화
고유전율 유전체, 커패시터 재료, 금속 전극, 배리어층, 도전막 및 신흥 메모리 재료 공정 혁신
커패시터 형성, 매립형 워드라인, 고종횡비 구조 및 첨단 패터닝 등 DRAM 스케일링 과제 해결
메모리 기술 동향과 로드맵 분석을 통한 공정 기회 및 기술 요구사항 발굴
과학적 방법론, 통계 분석, DOE 및 RSM을 활용한 기술 문제 해결과 실험 설계·수행
전기적·물리적·재료 특성 분석 데이터 해석 및 박막 특성과 소자 성능 분석
장비·공정 문제의 실험 기반 문제 해결 및 근본 원인 분석
고객 요구사항 정의, 공정 시연 및 메모리 통합 과제 해결을 위한 공정 솔루션 개발
차세대 메모리 소자 구조에 첨단 재료를 통합하는 방법 및 기법 개발
제품 이전, 고객 시연, 현장 교육 및 공정 문서화 지원
기술 논문 발표, 업계 학회 발표 및 특허 포트폴리오 기여
엔지니어 멘토링과 메모리 개발 프로그램 기술 리더십 제공, 필요 시 기술 인력 지도
자격요건 및 필요 역량
ALD, PEALD, CVD, PECVD, Epitaxy, 산화 및 어닐링 등 박막 증착 기술 전문성
DRAM, NAND 또는 신흥 메모리 소자 개발·통합 경험
고유전율 유전체, 금속 전극, 도전막, 배리어 재료 및 커패시터 기술 이해
첨단 메모리 응용 분야의 반도체 공정 통합 및 재료 공학 이해
XPS, SIMS, RBS, AFM, XRR, XRD, TEM, SEM, 타원계측 등 재료 분석 기법 경험
전기적 특성 분석 기법 및 메모리 소자 성능 지표에 대한 이해
메모리 소자 구조, 제조 흐름 및 스케일링 과제에 대한 깊은 이해
복잡한 공정 개발 프로젝트의 기술 방향, 일정, 예산 및 자원 계획을 독립적으로 이끌 역량
반응기 설계, 공정 조건과 박막 특성 사이의 관계에 대한 지식
첨단 실험 방법과 기초 원리를 활용한 증착 공정 개발 및 특성 분석 역량
HRTEM, FESEM, Auger, Raman 등 재료 분석 기법 전문성
고객·업계 파트너·경영진에게 기술 내용을 전달하는 구두·문서 소통 능력
고객 협업, 기술 리더십, 기술 논문 및 특허 실적
우대사항
대량 생산 환경을 위한 첨단 메모리 공정 개발 지원 경험
전산유체역학(CFD) 교육 또는 실무 경험
DRAM 커패시터의 고유전율 재료 및 금속 전극 개발 경험
매립형 워드라인(BWL) 통합 경험
고종횡비 증착 및 갭필 응용 경험
ZrO₂, HfO₂, Al₂O₃ 등 커패시터 유전체 및 관련 적층 구조 경험
첨단 패터닝 및 자기 정렬 통합 방식 경험
MRAM, ReRAM, PCM 또는 3D DRAM 등 신흥 메모리 기술 경험
Micron, Samsung, SK hynix, Kioxia, Western Digital, YMTC 또는 CXMT 등 메모리 제조사 지원 경험
지원 안내
온라인 지원
채용 안내
인종, 피부색, 종교, 연령, 국적, 성적 지향, 성별, 결혼 여부, 임신, 장애, 유전 정보, 재향군인 지위 등 법률상 보호되는 특성에 따른 차별 없이 지원자를 검토
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