SK 머티리얼즈 퍼포먼스 [ 신입 ] Photo Resist 연구 개발원 모집

주요업무

• 반도체용 포토레지스트(Photo Resist) 개발

• 조성 설계 및 핵심 원재료(Resin, PAG 등) 구조 디자인

• 리소그래피(Litho) 평가 DOE 수립 및 데이터 해석

• 트러블 슈팅 및 고객사 기술 지원

• 제품 불량 원인 분석

지원자격

• 화학, 재료, 고분자 계열 전공자

필수역량

• 유기 화합물 및 분자 간 상호 작용에 대한 학문적 지식

• 구조·물성·성능 간 관계에 대한 화학적 이해

• 목표 물성 확보를 위한 핵심 원재료 설계 및 최적화 기술

• 원재료 물성 및 구조 데이터 해석 능력

• 신규 분석법 개발 및 양산 적합성 검증 기술

• 생성형 AI 도구를 활용한 정보 탐색 및 분석 역량

우대사항

• 포토레지스트 또는 반도체 소재 개발 경험

• 리소그래피 평가 또는 DOE 설계 경험

• 데이터 분석을 통한 연구 개발 인사이트 도출 경험

전형절차

1. 공고 접수

2. 서류 전형

3. SKCT(인적성 검사)

4. 1차 면접

5. 2차 면접

6. 최종 합격

기타사항

• 지원서 내용이 허위일 경우 합격 취소 가능

• 성별, 보훈 대상, 장애 여부에 따른 불이익 없음

마감기한

2026년 4월 21일 18:00까지