[신입] Photo Resist 연구개발원 모집

담당업무

• 반도체용 Photo Resist 개발

• Resin, PAG 등 핵심 원재료 조성 설계 및 구조 Design

• Litho 평가 DOE 수립 및 평가 Data 해석

• 개발 과정 Trouble-Shooting

• 제품개발 관련 고객사 기술 지원 및 불량 원인 분석

필수역량

• 유기화합물 및 분자 간 상호작용 이해

• 구조·물성·성능 간 관계를 화학적으로 설명하는 학문적 지식

• 목표 물성 확보를 위한 핵심 원재료 설계 및 구조 후보군 도출

• 원재료 물성·구조 데이터 해석 및 신규 분석법 개발·적용

• 양산 적합성 검증 및 판정

• 생성형 AI 도구를 활용한 정보 탐색·정리·분석 역량

우대사항

• Photo Resist 또는 반도체 소재 개발 경험

• Lithography 평가 또는 DOE 설계 경험

• 데이터 분석을 통한 연구개발 과제 인사이트 도출 경험

전형절차

1. 공고 접수

2. 서류전형

3. SKCT

4. 1차 면접

5. 2차 면접

6. 최종합격

마감기한

2026년 9월 29일 09:00까지